- 10臺(tái)EUV光刻機(jī)，456億，外媒：臺(tái)積電頂不住了
- 光刻機(jī)受制于人：有技術(shù)也生產(chǎn)不出芯片，華為EUV掃描儀專利有用？
- 10臺(tái)EUV光刻機(jī)，456億，外媒：世間再無(wú)臺(tái)積電
- 美媒：EUV光刻機(jī)時(shí)代開(kāi)始“落幕”了
- 韓企研發(fā)出石墨烯EUV光罩保護(hù)膜，能大幅度提高5nm芯片良率
- ASML壓力山大，全球都想繞過(guò)EUV光刻機(jī)，來(lái)制造芯片
- 突破EUV的替代方案：納米壓印
- 很遺憾，三種EUV光刻機(jī)替代方案，中國(guó)都表現(xiàn)不突出
- 給中國(guó)樹(shù)立榜樣：被日本制裁后，韓國(guó)3年量產(chǎn)EUV光刻膠
- 不黑不吹，研發(fā)出EUV光刻機(jī)，我們也無(wú)法順利制造7nm芯片
