- 【進(jìn)展】新研究提出用光為量子自旋“護(hù)航”；中國科學(xué)院微電子研究所在EUV光刻收集鏡紅外輻射抑制方面取得新進(jìn)展；中國科學(xué)院國家納米科學(xué)中心鄢勇團隊在基于離子型神經(jīng)形態(tài)器件構(gòu)筑智能味覺系統(tǒng)方面取得進(jìn)展
- 可量產(chǎn)0.2nm工藝！ASML公布超級EUV光刻機：但死胡同也不遠(yuǎn)了
- 我們彎道超車的機會來了，EUV光刻機，有了新技術(shù)，更先進(jìn)
- ASML攤牌：1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片時，才要換EUV光刻機
- ASML要慌：EUV光刻機新光源出現(xiàn)，成本降50%，功耗降80%
- 中國芯的好消息：EUV光刻機沒有下一代，芯片工藝達(dá)到極限
- 臺積電認(rèn)慫，還是要買ASML新EUV光刻機，30億1臺也得買
- 臺積電認(rèn)栽了，將購買2納米EUV光刻機，不然搞不定2納米工藝
- ASML：中國HW/SMEE造不出EUV光刻機，不擔(dān)心競爭
- ASML新EUV光刻機28億？臺積電：我不買，不浪費錢，2nm一樣造
