你知道嗎？把設(shè)計(jì)好的芯片圖紙變成實(shí)物，這個(gè)關(guān)鍵步驟叫“流片”。但最近行業(yè)曝出一個(gè)驚人數(shù)據(jù)：2025年，芯片第一次流片的成功率只有14%！相比兩年前的24%，幾乎“腰斬”。這背后，作為深耕分立器件封測(cè)的老牌企業(yè)——合科泰，為您講解整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)面臨的巨大挑戰(zhàn)。

 

流片：從圖紙到硅片的驚險(xiǎn)一躍

流片流程大致是這樣：工程師把設(shè)計(jì)好的芯片“藍(lán)圖”（版圖文件）交給芯片代工廠（比如臺(tái)積電、三星）。首先，工廠要制作極其精密的“模具”——光刻掩膜版。在3nm這樣的尖端工藝上，一套掩膜版成本可能高達(dá)幾百萬(wàn)美元！接著是復(fù)雜的制造過(guò)程，核心是光刻（尤其是先進(jìn)的EUV光刻技術(shù)）、蝕刻、離子注入和層層金屬布線。芯片越做越小，布線帶來(lái)的電阻、電容問(wèn)題就越突出，難度激增。

 

制造完成的晶圓片，還要經(jīng)過(guò)嚴(yán)格的“體檢”（晶圓測(cè)試/CP測(cè)試），用探針一個(gè)個(gè)芯片測(cè)功能。如果發(fā)現(xiàn)速度慢了、功耗高了或者根本不通電，那這批流片就算失敗，錢(qián)打水漂，得重頭再來(lái)。即使過(guò)了這關(guān)，后續(xù)切割、封裝環(huán)節(jié)也可能出問(wèn)題。

成功率暴跌的三大“元兇”

為什么第一次就成功的芯片越來(lái)越少？主要有三大原因：

 

1.設(shè)計(jì)太復(fù)雜，驗(yàn)證跟不上：現(xiàn)在的芯片都是“混血兒”。比如，AI芯片可能用5nm做計(jì)算核心，14nm做存儲(chǔ)，28nm做接口。不同工藝模塊要協(xié)同工作，設(shè)計(jì)難度指數(shù)級(jí)上升。同時(shí)，AI、自動(dòng)駕駛等定制化芯片需求猛增，驗(yàn)證場(chǎng)景可能超過(guò)10億種，傳統(tǒng)設(shè)計(jì)工具根本忙不過(guò)來(lái)。

2.搶時(shí)間，基礎(chǔ)沒(méi)打牢：市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)太激烈，很多公司把開(kāi)發(fā)周期從18個(gè)月壓縮到1年以?xún)?nèi)。結(jié)果是設(shè)計(jì)驗(yàn)證時(shí)間被大幅擠壓，很多潛在問(wèn)題沒(méi)查出來(lái)就匆忙流片。有AI芯片公司就曾因“時(shí)序收斂”這種基礎(chǔ)問(wèn)題流片失敗，損失數(shù)千萬(wàn)美元。此外，先進(jìn)工藝（如2nm/3nm）本身良率就不高（臺(tái)積電2nm初期良率約60%，三星3nm更低），即使設(shè)計(jì)完美，制造環(huán)節(jié)也可能出問(wèn)題。

3.技術(shù)躍進(jìn)，老經(jīng)驗(yàn)不夠用：從28nm到14nm時(shí)，首次成功率就從30%降到26%。如今邁向3nm/2nm，復(fù)雜度更高，風(fēng)險(xiǎn)更大。同時(shí)，芯片設(shè)計(jì)要融合模擬、數(shù)字、射頻等多種技術(shù)，缺乏協(xié)同經(jīng)驗(yàn)就容易在信號(hào)傳輸上栽跟頭。

出路何在？提升成功率的“三板斧”

面對(duì)挑戰(zhàn)，行業(yè)也在積極尋找出路：

 

l AI助力“火眼金睛”：用AI設(shè)計(jì)驗(yàn)證工具是突破口。比如西門(mén)子的QuestaOne工具，利用AI預(yù)測(cè)哪些測(cè)試最關(guān)鍵，能把幾千次測(cè)試壓縮到幾百次，效率提升好幾倍，還能自動(dòng)定位問(wèn)題根源。結(jié)合數(shù)學(xué)驗(yàn)證和仿真，能把驗(yàn)證時(shí)間從幾周縮短到幾天。

l “模擬考”提前排雷：流片前先用FPGA（可編程芯片）快速搭建原型，驗(yàn)證系統(tǒng)級(jí)功能。有公司就靠這個(gè)方法發(fā)現(xiàn)了內(nèi)存控制器漏洞，避免了流片失敗。專(zhuān)用仿真加速器速度更是比普通電腦快百倍。

l “抱團(tuán)取暖”深度合作：芯片設(shè)計(jì)公司和代工廠緊密合作至關(guān)重要。像蘋(píng)果和臺(tái)積電合作開(kāi)發(fā)3nm芯片時(shí)，就共同優(yōu)化設(shè)計(jì)來(lái)提高良率。復(fù)用經(jīng)過(guò)嚴(yán)格驗(yàn)證的第三方成熟模塊（IP核），也能大大降低風(fēng)險(xiǎn)、縮短周期。

 

結(jié)語(yǔ)

流片成功率低至14%催生新趨勢(shì)：中小公司聚焦核心設(shè)計(jì)，將流片委托專(zhuān)業(yè)方。先進(jìn)封裝成破局關(guān)鍵，Chiplet技術(shù)通過(guò)模塊化封裝降低工藝依賴(lài)，合科泰Flipchip倒裝工藝研發(fā)線已探索多芯片封裝良率提升方案。國(guó)產(chǎn)替代加速背景下，合科泰以X-Ray檢測(cè)、全溫域測(cè)試等技術(shù)攻克良率難題。破局需AI驗(yàn)證、產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同與創(chuàng)新，合科泰DFM協(xié)同設(shè)計(jì)及現(xiàn)貨供應(yīng)鏈，為企業(yè)縮短周期、降低風(fēng)險(xiǎn)，成應(yīng)對(duì)“成功率危機(jī)”可靠伙伴。