華為近日公布了一項(xiàng)名為“反射鏡、光刻裝置及控制方法”的EUV光刻機(jī)專利，華為突然介入光刻機(jī)行業(yè)，以華為以往向來不打無(wú)準(zhǔn)備之仗的慣例，這意味著華為在光刻機(jī)方面已取得了重大突破，對(duì)中國(guó)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)無(wú)疑是重大的助力。

業(yè)界都清楚光刻機(jī)是一項(xiàng)技術(shù)密集度極高的產(chǎn)品，而EUV光刻機(jī)更是科技的皇冠，ASML的EUV光刻機(jī)就需要10萬(wàn)多個(gè)零部件，需要全球5000多家供應(yīng)商供應(yīng)，這些供應(yīng)商分別在美國(guó)、德國(guó)、日本等地，可以說沒有任何一家企業(yè)可以獨(dú)立完成EUV光刻機(jī)的制造。

正是由于EUV光刻機(jī)的技術(shù)難度，目前全球僅有ASML一家能生產(chǎn)出EUV光刻機(jī)，ASML也依靠獨(dú)有的EUV光刻機(jī)獲取了豐厚的利潤(rùn)，而ASML深受美國(guó)的影響，在美國(guó)的影響下導(dǎo)致ASML無(wú)法自由出貨EUV光刻機(jī)，甚至成為中國(guó)芯片制造的最大障礙。

近幾年來中國(guó)極力發(fā)展芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈，經(jīng)過近十年來的努力，中國(guó)在芯片制造的八大環(huán)節(jié)都已達(dá)到14nm，刻蝕機(jī)更已達(dá)到5nm，而芯片封測(cè)技術(shù)已達(dá)到3nm，僅有光刻機(jī)還停留在28nm以上。

面對(duì)如此窘境，中國(guó)的芯片產(chǎn)業(yè)鏈急需一個(gè)強(qiáng)力的企業(yè)推動(dòng)光刻機(jī)打破這個(gè)最后的瓶頸，而華為研發(fā)EUV光刻機(jī)技術(shù)，無(wú)疑為中國(guó)的光刻機(jī)打開了一個(gè)窗口，意味著中國(guó)在光刻機(jī)技術(shù)上開創(chuàng)了新局面。

華為研發(fā)的“反射鏡、光刻裝置及控制方法”的EUV光刻機(jī)專利，其實(shí)就是光刻機(jī)的核心技術(shù)之一，從90nm工藝以來，DUV光刻機(jī)所采用的光源都是193nm的光源，而EUV光源則是13．5nm，通過在水等介質(zhì)的多次折射得到相應(yīng)波長(zhǎng)的光線，從而實(shí)現(xiàn)了以193nm光源生產(chǎn)65nm至7nm工藝、13．5nm光線實(shí)現(xiàn)7nm至2nm的工藝，華為的研發(fā)的光刻機(jī)技術(shù)應(yīng)該就是為了解決這個(gè)核心技術(shù)問題。

華為親自下場(chǎng)研發(fā)光刻機(jī)，在于它已深刻認(rèn)識(shí)到等待美國(guó)“解禁”EUV光刻機(jī)遙遙無(wú)期，畢竟如今美國(guó)連14nm以下的DUV光刻機(jī)都不讓ASML出售給中國(guó)，如此華為親自下場(chǎng)研發(fā)EUV光刻機(jī)技術(shù)，可以加速中國(guó)的光刻機(jī)技術(shù)的進(jìn)展。

華為此前的技術(shù)研發(fā)也證明了它一旦公開了相關(guān)的專利，就意味著它在技術(shù)研發(fā)上已取得了突破，畢竟它擁有近20萬(wàn)的技術(shù)研發(fā)人員，每年投入的技術(shù)研發(fā)資金高達(dá)千億，即使是當(dāng)下它的業(yè)務(wù)面臨窘境，仍然堅(jiān)持千億研發(fā)投入，所以它取得光刻機(jī)技術(shù)突破應(yīng)該可信的。

國(guó)產(chǎn)的光刻機(jī)已形成了一條完整的產(chǎn)業(yè)鏈條，成為全球唯一擁有光刻機(jī)全產(chǎn)業(yè)鏈的經(jīng)濟(jì)體，雙工作臺(tái)、光學(xué)系統(tǒng)、物鏡系統(tǒng)、光源系統(tǒng)方面都已有相關(guān)企業(yè)研發(fā)成功，如今華為在光線折射技術(shù)方面的突破，無(wú)疑將補(bǔ)上最后的短板，如此國(guó)產(chǎn)EUV光刻機(jī)成為現(xiàn)實(shí)的日子進(jìn)一步靠近。

國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的技術(shù)突破對(duì)ASML無(wú)疑是巨大的威脅，或許正是感受到中國(guó)在光刻機(jī)技術(shù)方面的突破，ASML表示它是一家歐洲企業(yè)擁有自由出貨的距離，同時(shí)大舉擴(kuò)張它在中國(guó)的員工數(shù)量，近期又計(jì)劃在未來數(shù)年大幅擴(kuò)張DUV光刻機(jī)、EUV光刻機(jī)的產(chǎn)能，業(yè)界人士普遍認(rèn)為這是ASML為了向中國(guó)出售光刻機(jī)做準(zhǔn)備。

以往在諸多技術(shù)行業(yè)都證明了只要中國(guó)取得技術(shù)突破，海外企業(yè)就會(huì)迅速大舉供貨并降低價(jià)格，如今ASML面對(duì)中國(guó)在光刻機(jī)方面的突破，或許它對(duì)中國(guó)出售EUV光刻機(jī)的腳步也快了。