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3nm芯片真來(lái)了,三星稱即將量產(chǎn),采用GAA技術(shù)領(lǐng)先臺(tái)積電

2022-02-14 來(lái)源:互聯(lián)網(wǎng)亂侃秀
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關(guān)鍵詞: 三星 臺(tái)積電

雖然在2021年時(shí),大家就都知道2022年會(huì)是3nm芯片的量產(chǎn)之時(shí),因三星、臺(tái)積電都有過(guò)表示,但具體是什么時(shí)候,大家都沒(méi)有細(xì)說(shuō)。

而近日,終于傳出了確切消息,那就是三星代工市場(chǎng)戰(zhàn)略團(tuán)隊(duì)負(fù)責(zé)人Moonsoo Kang正式對(duì)外表示,2022上半年三星第一代的3nm GAA (3GAAE)制程技術(shù)將量產(chǎn),最遲不會(huì)超過(guò)二季度,而下半年將開始商業(yè)化生產(chǎn)。

此外,Moonsoo Kang還表示,三星的3nm芯片,會(huì)按照之前的計(jì)劃,采用GAAFET晶體管技術(shù),而不是繼續(xù)使用從14nm就開始的FinFET晶體管技術(shù)。

而基于GAA技術(shù),三星還將開發(fā)出第二代GAA技術(shù),稱之為3GAAP(3nm Gate-All-Around Plus),預(yù)計(jì)于明年,也就是2023年量產(chǎn)。

估計(jì)聽到這個(gè)消息后,臺(tái)積電還是有點(diǎn)慌的,并不是因?yàn)槿且慨a(chǎn)3nm芯片了,而主要是因?yàn)槿鞘褂昧薌AA晶體管技術(shù),確實(shí)比臺(tái)積電在3nm時(shí)使用的FinFET晶體管更先進(jìn)。

GAA晶體管能夠提供比FinFET 技術(shù)更好的靜電特性,能夠讓芯片進(jìn)一步微縮,也就是晶體管密度更大,另外還能降低柵極電壓,讓功耗降低。

所以如果三星的GAA技術(shù)的3nm芯片進(jìn)展迅速,良率比較高的話,對(duì)于臺(tái)積電而言,確實(shí)是一個(gè)非常大的壓力,說(shuō)不定能夠從臺(tái)積電這搶到更多的客戶。

而按照三星的說(shuō)法,3nmGAA芯片,較上一代的5nm的FinFET技術(shù),面積能夠縮小35%,性能提高30%,或功耗提高50%。

接下來(lái)就讓我靜態(tài)三星新一代的3nm芯片何時(shí)量產(chǎn)了,我想臺(tái)積電也是在拭目以待,看看三星能不能借3nm工藝,威脅到自己的地位,畢竟三星一直想要打敗臺(tái)積電,成全球代工廠商中的冠軍的。

當(dāng)然,臺(tái)積電和三星在3nm競(jìng)爭(zhēng),于我們而言,只是神仙打架,畢竟中芯才14nm,離3nm還好幾代,再加上10nm以下的設(shè)備受限,可以說(shuō)離3nm還遙不可及。



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