Tokyo Electron（TEL）前員工涉及竊取臺積電2nm技術(shù)案，9月10日傳出，TEL社長兼CEO河合利樹赴新竹與臺積電董事長暨總裁魏哲家會面，針對竊密案親自道歉，并提出后續(xù)處理方向。

SEMICON Taiwan 2025國際半導(dǎo)體展近期于南港展覽館盛大登場，焦點意外落在河合利樹身上。

據(jù)了解，傳出河合利樹赴新竹與魏哲家會面，為前員工涉及2nm技術(shù)泄露案親自道歉，并提出后續(xù)處理方向。熟知內(nèi)情人士透露，河合利樹每年參與中國臺灣半導(dǎo)體展，固定拜訪魏哲家。

今年因泄密案敏感，河合利樹選擇低調(diào)不公開露面，避免尷尬。雖然兩人密會細節(jié)并未對外說明，但被視為TEL對此事件的正式表態(tài)，也成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)關(guān)注焦點。

9月10日，中國臺灣經(jīng)濟部門負責(zé)人龔明鑫拒絕就針對臺積電2nm制程技術(shù)的商業(yè)機密竊取案發(fā)表評論，因擔(dān)心此案可能影響中國臺灣和日本的關(guān)系。龔明鑫表示，調(diào)查應(yīng)遵循證據(jù)，并強調(diào)經(jīng)濟部門尊重司法部門的調(diào)查結(jié)果。

據(jù)稱，一名加入TEL的前臺積電工程師，在試圖提升這家日本半導(dǎo)體設(shè)備制造商正在開發(fā)的2nm蝕刻機性能時，得到了兩名臺積電員工的幫助，涉嫌竊取臺積電的商業(yè)機密。三人均因涉嫌泄密事件被起訴，并被公司解雇。

此案令人意外，因為涉及的是一家日本公司的員工。

中國臺灣高等檢察院目前正在努力證實這些工程師是單獨行動，還是受日本公司指使。如果涉嫌泄密的幕后黑手不是TEL及其中國臺灣子公司，那么將為這家日本公司洗脫罪名。

由于臺積電的2nm技術(shù)代表著全球最先進的半導(dǎo)體工藝，該案已根據(jù)中國臺灣安全法案提起公訴。如果工業(yè)間諜罪名成立，三名嫌疑人可能面臨嚴厲的監(jiān)禁。

外界猜測了這名TEL工程師涉嫌竊取臺積電2nm制程技術(shù)數(shù)據(jù)的動機。有報道稱，該工程師在TEL面臨業(yè)績壓力，早在2023年8月就向仍在臺積電工作的前同事尋求幫助。據(jù)稱，其目的是獲取關(guān)鍵數(shù)據(jù)，以使得TEL的設(shè)備能夠通過臺積電的驗證，從而促進交易和采購。

臺積電發(fā)現(xiàn)違規(guī)行為，并于2025年7月8日向中國臺灣檢察機關(guān)和調(diào)查人員報告了涉嫌泄密事件，案件由此曝光。調(diào)查局立即展開了兩輪搜查和訊問。中國臺灣當(dāng)局認定此案嚴重威脅地區(qū)安全和行業(yè)競爭，并已獲得法院批準(zhǔn)拘留嫌疑人。檢察機關(guān)正在尋求對被告判處7至14年有期徒刑。

近年來，中國臺灣高科技產(chǎn)業(yè)屢屢遭遇來自其他地區(qū)的競爭對手挖角高級研發(fā)人才、竊取核心產(chǎn)業(yè)技術(shù)等事件，嚴重影響了中國臺灣的高科技發(fā)展和競爭力。鑒于《商業(yè)機密法》的不足，中國臺灣安全法案新增了保護措施，明確懲處任何為其他國家/地區(qū)或外國機構(gòu)竊取中國臺灣核心技術(shù)的行為。

2025年3月31日，中國臺灣宣布修訂核心技術(shù)清單，共計32項，其中包括14nm以下集成電路制程及相關(guān)的關(guān)鍵氣體、化學(xué)品和設(shè)備技術(shù)。用于人工智能（AI）計算的高性能（HPC）芯片設(shè)計技術(shù)也被納入清單。被判犯有經(jīng)濟間諜罪的違法者將面臨5至12年的監(jiān)禁，并處以500萬元新臺幣（16.5萬美元）至1億元新臺幣的罰款。（校對/趙月）