5G/6G技術(shù)特性展現(xiàn)氮化鎵“風(fēng)采”,電信需求正值藍(lán)海
全球首發(fā)8英寸GaN HEMTs
4月10日,在2024武漢九峰山論壇上,西安電子科技大學(xué)郝躍院士、張進(jìn)成教授課題組李祥東團(tuán)隊與廣東致能科技聯(lián)合攻關(guān),首次展示了全球首片8英寸藍(lán)寶石基GaN HEMTs晶圓。
據(jù)李祥東教授在會上介紹,通過調(diào)控外延工藝,其GaN外延片不均勻性控制在4%以內(nèi),所制備的HEMTs器件的cp測試良率超過95%,擊穿電壓輕松突破2000V。
據(jù)行業(yè)人士推測,該8英寸藍(lán)寶石基GaN HEMTs晶圓器件具有標(biāo)志性意義,目前200V以下以及650V左右的GaN功率HEMT已在8英寸晶圓線上實現(xiàn)了量產(chǎn),然而在8英寸線上實現(xiàn)2000V級別的GaN器件的展示尚屬首次。
8英寸晶圓將是GaN成為主流電力電子器件的必由之路,其成本將極具競爭優(yōu)勢:
一方面,由于轉(zhuǎn)向8英寸晶圓,每片GaN HEMTs晶圓的芯片數(shù)將比6英寸晶圓多近2倍,GaN器件成本與6英寸方案相比也將大幅下降。
另一方面,采用藍(lán)寶石襯底可以大幅提升GaN耐壓,市場應(yīng)用從消費類轉(zhuǎn)向工業(yè)和汽車等領(lǐng)域,需求進(jìn)一步打開,而隨著8英寸藍(lán)寶石襯底制備工藝的日趨成熟和大批量出貨,氮化鎵器件成本也有望進(jìn)一步下降。
第三,疊加致能自主開發(fā)的超薄緩沖層和簡單場板設(shè)計等優(yōu)勢,藍(lán)寶石基GaN HEMTs晶圓成本還可降至更低。
5G移動通信的關(guān)鍵技術(shù)
新興的第五代(5G)通信系統(tǒng)有望解鎖無數(shù)新業(yè)務(wù),并為許多行業(yè)提供增長平臺。5G移動通信的關(guān)鍵技術(shù)要求是實現(xiàn)數(shù)十億設(shè)備的泛在連接,并支持多Gbps的數(shù)據(jù)速率。目標(biāo)是實現(xiàn)比現(xiàn)有移動系統(tǒng)大數(shù)千倍的容量。5G可以提升商用應(yīng)用的性能,在增強(qiáng)現(xiàn)實、虛擬現(xiàn)實、混合現(xiàn)實應(yīng)用(AR、VR、MR)、視頻會議、工業(yè)自動化、自動駕駛汽車、聯(lián)網(wǎng)醫(yī)療設(shè)備等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)新的用戶體驗和服務(wù)。為了實現(xiàn)5G,在硬件開發(fā)、系統(tǒng)架構(gòu)和網(wǎng)絡(luò)部署方面面臨無數(shù)挑戰(zhàn)。
在 5G 設(shè)計中,需要模擬前端 (AFE) 來支持多輸入多輸出 (MIMO) 配置中的多個發(fā)射和接收路徑。圖2顯示了子陣列有源相控陣天線(APAA)大規(guī)模MIMO的框圖。如圖2所示,RF前端模塊由功率放大器(PA)、低噪聲放大器(LNA)和開關(guān)組成。5G 日益復(fù)雜,限制了在開發(fā)此類復(fù)雜射頻子系統(tǒng)方面具有專業(yè)知識的制造商數(shù)量。然而,隨著5G設(shè)計的成熟,越來越多的供應(yīng)商正在應(yīng)對AFE的設(shè)計挑戰(zhàn)。
眾所周知,RF PA的性能通常主導(dǎo)著整個發(fā)射機(jī)(TX)的性能,因為它的功率附加效率(PAE)決定了整個TX的功耗和散熱要求。為了在厘米波/毫米波頻率下增強(qiáng)用戶體驗和大規(guī)模MIMO天線,5G系統(tǒng)將需要更多的PA集成到射頻前端模塊(FEM)中,這使得5G PA的設(shè)計比4G PA更為關(guān)鍵。對于任何成功的商用 5G 應(yīng)用,輸出功率 (Pout)、線性度、成本、電路拓?fù)湓O(shè)計、PA的形狀因素等都非常重要。許多其他公司也在投入大量資源來實現(xiàn)5G革命,其中將使用sub-6GHz頻段的頻率范圍1(FR1)和毫米波頻段的頻率范圍2(FR2)。
自 1990 年代該技術(shù)進(jìn)入市場以來,射頻功率放大器一直以橫向擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體 (LDMOS) 器件為主,尤其是在頻率低于 2 GHz頻率范圍的應(yīng)用時,因為它們成本低廉。他們最大的競爭對手是基于砷化鎵(GaAs)的放大器,它更適合更高的頻率,但其功率傳輸水平較低,成本較高。與硅和砷化鎵(GaAs)半導(dǎo)體材料相比,氮化鎵(GaN)是一種寬帶化合物半導(dǎo)體,具有高擊穿電場強(qiáng)度、高電子飽和速度、高導(dǎo)熱性和低介電常數(shù)。氮化鎵(GaN)將取代傳統(tǒng)的半導(dǎo)體材料用于5G網(wǎng)絡(luò)應(yīng)用,例如小型基站(Small Cell),這些應(yīng)用需要更高的頻率、緊密的集成度和最低的實施成本。低壓氮化鎵(GaN)提供的效率性能將不可避免地進(jìn)入手機(jī)應(yīng)用中。同時氮化鎵(GaN)能夠在高溫環(huán)境下工作,非常適合被動冷卻、所有戶外塔頂基站電子設(shè)備和汽車應(yīng)用中。
在不斷擴(kuò)大的市場中騰出空間
電信基礎(chǔ)設(shè)施仍然是射頻 GaN 器件的最大單一市場。 根據(jù) Yole Intelligence 的《RF GaN 化合物半導(dǎo)體 Q2-23》報告,該細(xì)分市場的收入預(yù)計將從 2022 年的近 7.77 億美元增加到 2028 年的約 14 億美元,復(fù)合年增長率為 10%。 然而,不斷擴(kuò)大的硅基氮化鎵電信基礎(chǔ)設(shè)施市場并不意味著碳化硅基氮化鎵將完全黯然失色。 相反,不斷增長的電信市場將為碳化硅基氮化鎵和硅基氮化鎵領(lǐng)域帶來增長空間。 預(yù)計到 2028 年,GaN 將占電信基礎(chǔ)設(shè)施設(shè)備出貨量的 75% 以上。其中,70% 以上將是 GaN-on-SiC,5% 將是 GaN-on-Si,其余部分將是 GaN-on-Si LDMOS的市場份額將繼續(xù)下降。
如今,作為主要平臺,碳化硅基氮化鎵擁有完善的供應(yīng)鏈。SEDI、Qorvo、Wolfspeed 和 NXP 等器件供應(yīng)商以及國防相關(guān)公司 Raytheon、BAE Systems 和 Northrop Grumman 均提供 GaN-on-SiC 技術(shù)。2022 年,SEDI、Qorvo 和 Wolfspeed 是 RF GaN 領(lǐng)域的領(lǐng)先廠商。GaN 領(lǐng)域的新來者 NXP 于 2020 年在美國開設(shè) 6 英寸 GaN-on-SiC 晶圓廠,進(jìn)入電信市場供應(yīng)鏈,實現(xiàn)了顯著增長。擁有 LDMOS 產(chǎn)品,已成為基于 GaN 的電信基礎(chǔ)設(shè)施領(lǐng)域的領(lǐng)先企業(yè)?,F(xiàn)在,這個不斷擴(kuò)大的行業(yè)為 GaN-on-Si 技術(shù)提供了更多空間,其中低功率 GaN 解決方案有望用于 10 W 以下的 32T32R 和 64T64R mMIMO 基站,今年會有越來越多的產(chǎn)品上市。
但這還不是硅基氮化鎵技術(shù)的全部! 新頻率范圍 3 (FR3) 頻段中的 5G 手機(jī) PA 也出現(xiàn)了一個充滿希望的機(jī)會。 盡管硅基氮化鎵在手機(jī) PA 的 7 GHz 以下和 5G 毫米波頻率中具有潛力,但值得注意的是,7 GHz 以下的完善的 GaAs 解決方案已經(jīng)存在,并且基于硅的解決方案已獲得關(guān)注 適用于毫米波應(yīng)用。 這些現(xiàn)有技術(shù)在技術(shù)和供應(yīng)鏈方面都已經(jīng)成熟,構(gòu)成了重要的競爭對手。 就 FR3 而言,競爭仍然開放,硅基氮化鎵有可能滿足要求并找到實施機(jī)會。 然而,必須考慮到將 GaN-on-Si 集成到手機(jī)系統(tǒng)中需要復(fù)雜的設(shè)計更改,這使得在 FR3 頻段采用該技術(shù)成為一個長期目標(biāo)。 最后的決定總是由蘋果、三星和小米等智能手機(jī)原始設(shè)備制造商說了算,這可能是硅基氮化鎵行業(yè)的拐點。
在過去幾年的硅基氮化鎵生態(tài)系統(tǒng)中,意法半導(dǎo)體、MACOM、英飛凌科技等公司以及格羅方德、聯(lián)電等晶圓代工廠都積極參與射頻硅基氮化鎵技術(shù)的開發(fā)和引進(jìn)。 這些參與者正在努力將這項技術(shù)推向市場。 此外,還有像 Finwave 這樣的創(chuàng)新公司,該公司專注于在 8 英寸 GaN-on-Si 晶圓上開發(fā) 3D GaN FinFET 技術(shù)。 他們在開發(fā)過程中使用標(biāo)準(zhǔn)硅鑄造工具。 除了這些創(chuàng)新公司之外,GCS、UMC 和 Global Foundries 等老牌公司也有潛力快速適應(yīng)并進(jìn)入市場。 參與者正在為這些殺手級應(yīng)用做好準(zhǔn)備,以運行他們的技術(shù),并開啟射頻行業(yè)大批量硅基氮化鎵制造的新時代。
