三星明年量產(chǎn)430層閃存！但有人瞄準(zhǔn)了1000+層
2024-04-16
來源：互聯(lián)網(wǎng)
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三星計劃在本月晚些時候開始量產(chǎn)第九代V-NAND閃存，可用的堆疊層數(shù)達290層，相比現(xiàn)在的236層只增加不到23％。
這一代新閃存將采用新的堆疊架構(gòu)，底部是CMOS層加邏輯電路，上邊是145層閃存陣列，再上邊又是145層閃存陣列。
這種方法雖然更復(fù)雜，但是良品率可以得到很好的保障，而且可以輕松進一步拓展。
按照三星的規(guī)劃，2025年下半年將量產(chǎn)第十代V-NAND，進一步堆疊到430層。
更遙遠的未來，三星可能會在2030年左右做到1000層。
中國長江存儲可能會在今年下半年量產(chǎn)300層，SK海力士計劃明年初量產(chǎn)321層，鎧俠號稱2031年量產(chǎn)1000多層！
