2022年，中國從ASML進口了約200億元的光刻機，當時很多人稱，形勢還是較為嚴峻的，我們對ASML的依賴太大了，要努力提高國產(chǎn)光刻機的供應(yīng)。

而2023年，我們從ASML進口了600億元的光刻機，較2022年增加了2倍，形勢更為嚴峻了。

誰知道2024年1-2月，就更加夸張了，海關(guān)數(shù)據(jù)顯示，我們向ASML進口了32臺光刻機，進口金額高達10.57億美元（約76億人民幣），增長256%。

為何我們依然要從ASML進口這么多光刻機？原因當然是國內(nèi)需要這么多，國內(nèi)供應(yīng)不了，只有從ASML進口。

如下圖所示，這是當前光刻機的工藝情況，可以看到只有ASML才擁有超高端、高端、中端等各種光刻機，覆蓋3nm至其它所有工藝。而國產(chǎn)光刻機，還處于90nm階段，肯定是無法滿足國內(nèi)的需求的。

而最近幾年，國內(nèi)在大規(guī)模的新建晶圓廠，按照媒體的報道，我們目前計劃在建的晶圓廠就高達22座，都是要在最近3年內(nèi)投產(chǎn)。

而這些晶圓廠，較大部分是制造28nm-90nm之間的芯片，這樣的工藝，國內(nèi)的光刻機支撐不了，所以不得不從ASML進口光刻機。

如下圖所示，這是某機構(gòu)統(tǒng)計的，國內(nèi)半導體設(shè)備能夠支撐的工藝情況，上面標注的國產(chǎn)光刻機是65nm，其它大多到了28nm、14nm，甚至5nm，先進很多。

從這些情況以及數(shù)據(jù)來看，我們的光刻機供應(yīng)依然非常嚴峻，美國目前只斷了最先進的EUV光刻機，斷了較為先進的高端一點的浸潤式光刻機，對于普通的DUV光刻機還沒有斷供。

但我們不防想一想，如果美國對普通DUV光刻機也出手，不賣給我們了，那我們怎么辦？國外的買不到，國內(nèi)的技術(shù)支撐不了，那就真的麻煩了，成熟工藝都會陷入困境。

所以國產(chǎn)光刻機，必須努力才行，已經(jīng)嚴重制約中國芯片制造產(chǎn)業(yè)的發(fā)展了，成為了最短的那一塊短板了，不說領(lǐng)先多少，至少要達到主流國產(chǎn)半導體設(shè)備的水準才行。