全球諸多國家都在研發(fā)繞開ASML的EUV光刻機的芯片制造方案，不過目前為止真正量產(chǎn)其實僅有一家，而這種設(shè)備即將投入生產(chǎn)，將徹底改變芯片制造行業(yè)，大幅降低先進芯片制造成本，還將讓ASML的EUV光刻機變成廢鐵。

推動芯片制造變革的是日本的佳能，佳能早在數(shù)年前就宣布研發(fā)成功無需浸潤式光刻機的NIL工藝，不過當(dāng)時的工藝還在10納米以上，采用NIL工藝的也僅有日本鎧俠，日本鎧俠用這種工藝生產(chǎn)存儲芯片。

由于NIL工藝局限于10納米以上，導(dǎo)致它并未被全球芯片制造行業(yè)接受，為了進一步發(fā)展該項工藝，佳能曾揚言可以將該項工藝發(fā)展到5納米，在過去兩年它已成功將該項工藝發(fā)展到10納米以下，如今更進一步將該項工藝推進到5納米，可謂進展神速。

該項工藝的最大優(yōu)勢就是成本，NIL的設(shè)備成本僅為EUV光刻機的10%，而耗電量也只有EUV光刻機的10%，這就意味著采用NIL設(shè)備的5納米工藝成本將降低九成，對于當(dāng)下的芯片行業(yè)來說將極具吸引力。

從2022年下半年以來，全球芯片行業(yè)就進入供給過剩的階段，導(dǎo)致全球芯片價格急跌，一些芯片的價格甚至暴跌九成，為了進一步降低成本，全球芯片企業(yè)都在尋求更低的芯片制造成本，為此一些芯片企業(yè)將芯片訂單交給三星，迫使臺積電降低代工價格，然而降價幅度最高也只有兩成，遠遠無法滿足要求，佳能的NIL工藝成本優(yōu)勢無疑將極具吸引力。

隨著佳能宣布可以向全球供應(yīng)5納米的設(shè)備，全球芯片價格可望進入新一輪的下降周期，此前美國模擬芯片龍頭就曾傳出將芯片價格下降九成，借此確保它的市場，芯片價格大降給它帶來巨大的壓力，而佳能的NIL工藝對于這些美國芯片企業(yè)來說將是福音。

在美國芯片的壓力下，或許部分芯片制造企業(yè)將開始大規(guī)模采用佳能的NIL設(shè)備，進而進一步降低芯片制造成本，相比起現(xiàn)有采用EUV光刻機生產(chǎn)的5納米工藝，大幅降低九成芯片制造成本的NIL工藝將有望真正將芯片降低至白菜價。

佳能的NIL工藝對于ASML來說可謂是滅頂之災(zāi)，EUV光刻機為ASML的最大利潤來源，原因就是全球僅有ASML能制造EUV光刻機，這也意味著ASML由此壟斷著7納米及以下工藝，然而如今佳能的5納米NIL設(shè)備開始大規(guī)模交貨，那么ASML在7納米以下的壟斷格局被打破，坐享厚利的局面不再存在。

其實當(dāng)年在光刻機市場，真正的老大正是佳能，只不過后來佳能錯失了浸潤式光刻機市場，隨后美國又將EUV光刻技術(shù)交給ASML，才導(dǎo)致佳能的沒落，如今佳能再度進入先進芯片設(shè)備市場不過是拿回它應(yīng)得的東西罷了，體現(xiàn)了佳能在該行業(yè)的深厚技術(shù)底蘊。

不過業(yè)界人士也認為佳能的NIL設(shè)備固然有巨大的潛力，但是考慮到當(dāng)下?lián)碛?納米及以下工藝的三大芯片制造企業(yè)Intel、三星、臺積電等都已采購了大量的EUV光刻機，他們不太可能短時間內(nèi)拋棄EUV光刻機而轉(zhuǎn)用NIL設(shè)備，這可能會給佳能的NIL設(shè)備銷售造成困擾。

真正能幫助佳能進入7納米以下芯片設(shè)備市場的其實是中國芯片，可惜的是由于眾所周知的原因，佳能暫時無法將先進NIL設(shè)備賣給中國芯片企業(yè)，這成為佳能的遺憾，佳能打垮ASML可能會需要較長的時間。