近日，有很多媒體表示稱，中國(guó)大陸的晶圓廠，正在和國(guó)內(nèi)某手機(jī)巨頭一起，利用DUV深紫外線技術(shù)，制造5nm的芯片，具體的芯片可能很快就要推出。

雖然消息不知真假，但結(jié)合前段時(shí)間浸潤(rùn)式光刻機(jī)之父林本堅(jiān)的說(shuō)法，還是靠譜的，林本堅(jiān)表示稱，浸潤(rùn)式光刻機(jī)，可以制造5nm芯片，只是成本有點(diǎn)高而已，需要4重曝光。

事實(shí)上，很多專業(yè)人士有示，浸潤(rùn)式光刻機(jī)的工藝級(jí)限，絕不是7nm，甚至也不是5nm，理論上連2nm芯片都能造。林本堅(jiān)也表態(tài)了類似觀點(diǎn)，他說(shuō)浸沒(méi)式DUV光刻技術(shù)，最高可以實(shí)現(xiàn)六重光刻模式，可以實(shí)現(xiàn)更先進(jìn)的工藝。

只是，先進(jìn)工藝下，DUV技術(shù)需要更多重的曝光技術(shù)，會(huì)顯著降低良率，降低制造效率，進(jìn)而提高成本。

所以，在能買(mǎi)到EUV光刻機(jī)的情況下，到了7nm時(shí)，就會(huì)使用EUV紫光線來(lái)制造，與使用DUV相比，更為經(jīng)濟(jì)有效，因?yàn)椴恍枰嘀仄毓?，良率高，成本更低?/span>

但大家都清楚，國(guó)內(nèi)買(mǎi)不到EUV光刻機(jī)，所以再難，再成本高，也只能用DUV光刻技術(shù)，去制造比7nm更先進(jìn)的技術(shù)，這是沒(méi)辦法的事情。

所以這些媒體報(bào)道稱的，拿DUV技術(shù)，制造5nm芯片，也并不離譜，非常有可能，甚至哪一天傳出拿DUV制造3nm芯片，也有可能，不是在吹牛的。

當(dāng)然，現(xiàn)在5nm芯片還沒(méi)造出來(lái)，但只要造出來(lái)了，就宣告美國(guó)的制裁基本失敗了。因?yàn)槊绹?guó)去年的政策，是將中國(guó)邏輯芯片鎖死在14nm的。

但今年，等效于7nm的芯片出來(lái)了，然后要是再有了等效5nm的芯片，當(dāng)然意味著這個(gè)封鎖徹底失敗了。

更重要的是，目前全球使用5nm以下工藝的芯片，就只有蘋(píng)果的A17系列芯片、M3系列芯片，以及高通、聯(lián)發(fā)科最新的Soc，除了這些芯片之外，其它所有芯片都是使用5nm或更成熟的工藝，5nm及更成熟工藝的芯片占比超過(guò)97%。

那么從市場(chǎng)份額來(lái)看，只要能夠制造5nm工藝的芯片，意味著全球至少97%的芯片都能夠制造了，僅僅只有3%的芯片制造不出來(lái)。在這樣的情況之下，我們還需要擔(dān)心封鎖、打壓么？

所以，這顆5nm芯片希望是真的，只要它一推出來(lái)，估計(jì)美國(guó)的封鎖就徹底淪為笑話了，也就沒(méi)有存在的必要了，也意味著中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)正式騰飛起來(lái)了，你覺(jué)得呢？