12 月 7 日消息，尼康官網(wǎng)發(fā)布新聞稿，宣布推出浸潤式 ArF 光刻機(jī)新品 NSR-S636E，將于明年 1 月開售。

據(jù)介紹，NSR-S636E 是尼康光刻系統(tǒng)中生產(chǎn)率最高的產(chǎn)品，是一款用于關(guān)鍵層的浸潤式光刻機(jī)。

尼康表示，隨著數(shù)字化轉(zhuǎn)型的加速，能夠更快地處理和傳輸大量數(shù)據(jù)的高性能半導(dǎo)體變得越來越重要。尖端半導(dǎo)體性能技術(shù)創(chuàng)新的關(guān)鍵推動因素是電路小型化和 3D 半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)，而 ArF 浸潤式光刻機(jī)對這兩種制造工藝都至關(guān)重要。與傳統(tǒng)半導(dǎo)體相比，在 3D 半導(dǎo)體制造過程中更容易發(fā)生晶圓翹曲和失真，因此需要比以往任何時(shí)候都更先進(jìn)的光刻機(jī)校正和補(bǔ)償能力。

NSR-S636E ArF 光刻機(jī)利用增強(qiáng)型 iAS（inline Alignment Station），在曝光前執(zhí)行復(fù)雜的晶圓多點(diǎn)測量。這一系統(tǒng)利用高精度測量和廣泛的晶圓翹曲和失真校正功能，提供了更高的重疊精度，同時(shí)保持了最大的吞吐量。

尼康表示，與當(dāng)前型號相比，NSR-S636E 的生產(chǎn)效率提高了 10-15%。

從尼康官網(wǎng)參數(shù)表獲悉，NSR-S636E 光刻機(jī)支持 38nm 以下精度，吞吐量可達(dá) 280 片晶圓 / 小時(shí)。

據(jù)日經(jīng)新聞此前報(bào)道，時(shí)隔二十多年，尼康將于 2024 年投放光刻機(jī)新產(chǎn)品，通過尋求逆勢開拓中國大陸市場，以實(shí)現(xiàn)卷土重來。

報(bào)道還稱，尼康和佳能曾在 1990 年代之前主導(dǎo)市場，但在最尖端的極紫外（EUV）設(shè)備的開發(fā)競爭中敗給了 ASML。極紫外光刻機(jī)在 2010 年后半期實(shí)用化，全世界只有 ASML 能夠生產(chǎn)。另一方面，尼康的經(jīng)營資源分散在各種光源上，缺乏強(qiáng)勢領(lǐng)域。