實話實說，對于中國大陸的芯片制造產(chǎn)業(yè)而言，目前的首要任務肯定不是像臺積電、三星一樣搞定3nm，而是腳踏實地，先把14nm、7nm產(chǎn)業(yè)鏈實現(xiàn)全部國產(chǎn)化。

然后再用利14nm、7nm這樣相對先進的工藝，制造出5nm、3nm這樣性能的芯片出來，畢竟EUV光刻機買不到，我們要進入5nm確實很困難。

不過，要實現(xiàn)14nm、7nm芯片的全部國產(chǎn)化，也有一個大困難，那就是國產(chǎn)光刻機。

普通的ArF光刻機，最高支持的工藝是65nm，只有進入浸潤式光刻機，也就是ArFi光刻機，最高才能支持到7nm這個級別，所以要想14nm、7nm芯片全國產(chǎn)化，浸潤式光刻機必須國產(chǎn)化。

那么問題來了，浸潤式光刻機國產(chǎn)化，我們還差多少步？

浸潤式光刻機，與普通的非浸潤式ArF光刻機相比，主要在于在晶圓上方，會加入一層水，而深紫光線光源，經(jīng)過這一層水的折射時，波長193nm會變成134nm，從而提高光刻精度。

而控制這層水的系統(tǒng)的叫做浸潤式系統(tǒng)。其它的結(jié)構(gòu)，與普通的非浸潤式光刻機相同。

而普通的非浸潤式光刻機，主要由三大關鍵部分組成，光源系統(tǒng)、物鏡系統(tǒng)、工作臺。

光源系統(tǒng)采用的是193nm波長的深紫外線，這一塊上海微電子目前實現(xiàn)的光刻機，采用的就是193nm波長的光源，所以光源系統(tǒng)已經(jīng)搞定。

再看物鏡系統(tǒng)，這一塊是當前光刻機的難點，因為ASML與卡爾蔡司獨家合作，目前國產(chǎn)的物鏡系統(tǒng)還在90nm，但有媒體報道稱，長春光電所已經(jīng)搞定了32nm，但離浸潤式光刻機的要求，還有一點距離。

接著看工作臺，這里并不是特別難，清華大學與華卓精科合作，推出的雙工作臺已經(jīng)實現(xiàn)了10nm精度的控制，所以用于浸潤式光刻機，基本上也沒問題了。

至于浸潤式系統(tǒng)這一塊，主要由控制軟件、液態(tài)傳感器、控制器等組成，之前有媒體報道稱啟爾機電在浸液控制系統(tǒng)上取得了重大突破，可以用于浸潤式光刻機了。

可見，真正卡住的只有物鏡系統(tǒng)了，一旦物鏡系統(tǒng)突破，那么國產(chǎn)浸潤式光刻機就能夠搞定了，那么實現(xiàn)最高7nm芯片的全國產(chǎn)化，也就不那么困難了。

至于國產(chǎn)EUV光刻機，那就物鏡系統(tǒng)、工作臺、EUV光源都要解決，所以大家先別急，等浸潤式光刻機實現(xiàn)國產(chǎn)化再說，路得一步一步走。