眾所周知，美國(guó)在本月再次升級(jí)芯片禁令，將大家最關(guān)注的浸潤(rùn)式光刻機(jī)，也禁了。

理論上，浸潤(rùn)式光刻機(jī)，雖然也是采用193nm波長(zhǎng)的光源，但通過(guò)多重曝光之后，最高可以支持到7nm。

美國(guó)之所以禁了它，很多人猜測(cè)是被華為Mate60這款手機(jī)嚇住了，因?yàn)樵诮钪?，中?guó)居然能獨(dú)立搞出等效于7nm的芯片來(lái)，這是美國(guó)不能接受的，所以轉(zhuǎn)身又將浸潤(rùn)式光刻機(jī)也禁了。

禁了浸潤(rùn)式光刻機(jī)，我們的芯片產(chǎn)業(yè)怎么辦？無(wú)法再生產(chǎn)7nm芯片，再也無(wú)法進(jìn)入7nm之下了么？

近日，臺(tái)積電前研發(fā)副總，浸潤(rùn)式光刻機(jī)之父林本堅(jiān)表示，美國(guó)是無(wú)法阻止中國(guó)大陸在先進(jìn)制程芯片技術(shù)方面的進(jìn)步，中國(guó)大陸可以利用現(xiàn)有設(shè)備，推進(jìn)到5nm工藝。

其它人這樣說(shuō)，可能大家覺(jué)得是在吹牛，但林本堅(jiān)這樣說(shuō)，意義卻不一樣的。

他不僅是臺(tái)積電前研發(fā)副總，更是浸潤(rùn)式光刻機(jī)之父。當(dāng)初尼康、佳能、ASML均在研發(fā)光刻機(jī)，大家在193nm波長(zhǎng)的光源之后，有了分歧，尼康、佳能等要改進(jìn)光源，采用154nm的，但這種光源非常不穩(wěn)定，很難搞。

而林本堅(jiān)覺(jué)得，利用水的折射原理，將193nm波長(zhǎng)光源，經(jīng)過(guò)水的折射后，就等效于134nm了，波長(zhǎng)更短，同時(shí)還直接跳過(guò)154nm這個(gè)難搞的波長(zhǎng)了。

尼康、佳能不相信他，堅(jiān)持搞自己的154nm波長(zhǎng)的光刻機(jī)。當(dāng)時(shí)ASML還是小廠，反正也生存困難，不如陪林本堅(jiān)賭一把，于是和臺(tái)積電配合，搞出浸潤(rùn)式光刻機(jī)。

最后浸潤(rùn)式光刻機(jī)非常成功，ASML占得先機(jī)，因此將佳能、尼康甩在了身后，奠定了自己光刻機(jī)老大的地位，最后現(xiàn)搞出EUV光刻機(jī)，佳能、尼康就徹底不是對(duì)手了。

可見(jiàn)，林本堅(jiān)對(duì)光刻機(jī)技術(shù)，芯片技術(shù)都是非常了解的，他認(rèn)為我們基于現(xiàn)有設(shè)備，能夠繼續(xù)改進(jìn)，然后推進(jìn)到5nm，那么這很可能就會(huì)成為現(xiàn)實(shí)。

事實(shí)上，除了利用現(xiàn)有設(shè)備進(jìn)行改進(jìn)，推進(jìn)到5nm之外，目前國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)也在不斷的突破，這是兩條不同的線，任何一條線的前進(jìn)，都能實(shí)現(xiàn)5nm這個(gè)小目標(biāo)。

所以說(shuō)，美國(guó)打壓，其實(shí)真的是沒(méi)有意義的，反而會(huì)逼著中國(guó)供應(yīng)鏈崛起，最終擺脫對(duì)國(guó)外的依賴，甚至有可能讓國(guó)外的芯片設(shè)備廠商，徹底失去中國(guó)大陸這個(gè)市場(chǎng)。

那什么時(shí)候我們能搞定5nm？就讓時(shí)間來(lái)證明了，不知道那時(shí)候，美國(guó)還有何辦法可想？是不是就得放開(kāi)，然后進(jìn)行傾銷來(lái)打壓了？