近日，佳能出貨5nm的芯片光刻機，震驚了整個網(wǎng)絡(luò)。

佳能官網(wǎng)發(fā)公告稱，旗下最先進的新一代納米壓?。∟IL）設(shè)備FPA-1200NZ2C正式出貨。

這種光刻機，可實現(xiàn)最小線寬14nm的圖案化，相當(dāng)于目前5nm邏輯芯片。而一步，佳能要改進技術(shù)，有望實現(xiàn)2nm邏輯芯片。

可以說，佳能的這臺光刻機一推出，將以往芯片制造的技術(shù)路線顛覆了。

以往當(dāng)芯片進入到5nm時，必須使用EUV光刻機，因為除了EUV之外，其它最先進的DUV光刻機，也只能達到7nm的制程，再提升，就非EUV不可。

而EUV光刻機，目前全球只有ASML能夠生產(chǎn)，更關(guān)鍵的是，EUV的核心供應(yīng)商，全部ASML綁定在了自己的戰(zhàn)車上，同時EUV專利，也基本被ASML壟斷了。

所以如果其它廠商，想走EUV這條路，其實是千難萬難的，不說一定不行，但走不走的通，還真說不準，因為ASML已經(jīng)將路堵死了，要走就得自己打通一條路。

但現(xiàn)在佳能告訴我們，不一定非得搞定EUV光刻機，EUV那一套，可以被替代，不一定非得用EUV，這就是顛覆式創(chuàng)新了。

要知道在佳能之前，怎么顛覆EUV技術(shù)路線，有很多方案，比如佳能走的NIL納米壓印方案，還有俄羅斯走的X射線方案，歐洲廠商走的DSA方案，美國廠商走的BLE電子束方案。

但是誰走的通，誰能成功，誰也說不好，甚至有人認為，這些方案，都走不通，ASML地位穩(wěn)如泰山。

但如今，佳能走通了，這對于ASML而言，肯定是壞的不能再壞的消息了，畢竟EUV不再是唯一了。

三大光刻技術(shù)，廠商們擁有的專利量

同時，這個消息，也給了我們啟示，那就是我們接下來的光刻機之路該怎么走呢？死磕EUV，按照ASML的路走，還是換成NIL，或者其它方案呢？或許繞開EUV才是出路。

另外值得一提的，目前在NIL、EUV、DSA、BLE等方向上，中國大陸的廠商表現(xiàn)都不突出，如上圖所示是幾大技術(shù)方案的專利數(shù)量，佳能在NIL上處于壟斷地位。

而ASML主要集中在EUV上，在NIL上也有一些布局。臺積電、蔡司、三星主要集中在EUV上面。