近日，芯片光刻機(jī)又有了大突破，不過(guò)都和中國(guó)無(wú)關(guān)，一是俄羅斯報(bào)道稱只花了37萬(wàn)元，就生產(chǎn)出了DUV級(jí)別的光刻機(jī)，然后還表示在明年要搞定7nm的樣機(jī)。

另一家是日本光刻機(jī)巨頭佳能表示，生產(chǎn)5nm芯片的光刻機(jī)正式銷售，不過(guò)這種光刻機(jī)，不是大家熟悉的EUV光刻機(jī)，而是采用NIL納米壓印技術(shù)。

這兩個(gè)消息，都是國(guó)外的突破，都與中國(guó)光刻機(jī)無(wú)關(guān)，但這兩件事情，還是給我們非常大的啟示，我覺(jué)得國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，真的需要重視。

俄羅斯之前是不能生產(chǎn)光刻機(jī)的，哪怕最簡(jiǎn)單的i線、G線光刻機(jī)，俄羅斯都是進(jìn)口的，這次居然直接生產(chǎn)出了DUV級(jí)別的，還只花了37萬(wàn)元，你說(shuō)這震撼不震撼？

同時(shí)俄羅斯還提出了X射線方案，表示明年要生產(chǎn)出7nm光刻機(jī)的樣機(jī)，這可是相當(dāng)大的一步了。

而佳能之前的的技術(shù)只有ArF光刻機(jī)，與上海微電子是同一水平的，現(xiàn)在突然就進(jìn)入了5nm，還采用了NIL這種全新的技術(shù)，繞過(guò)了EUV方案。

這說(shuō)明，光刻機(jī)并沒(méi)有想象中的難，只要努力，一定能夠突破的，要知道中國(guó)在光刻機(jī)技術(shù)上有很多積累，從其研發(fā)歷史來(lái)看，其實(shí)最早與美國(guó)相差并不大的，有很多經(jīng)驗(yàn)，難道還比不上俄羅斯？還比不上佳能？

另外，俄羅斯換道X射線方案，佳能換道 NIL技術(shù)方案，都繞開(kāi)了EUV技術(shù)，為什么會(huì)繞開(kāi)，這是因?yàn)锳SML已經(jīng)將EUV方案的核心供應(yīng)鏈，全撐在自己手中了，其它廠商，要想在EUV上走通，非常難，需要重塑整個(gè)供應(yīng)鏈。

而俄羅斯的X射線方案，佳能的NIL方案，都繞開(kāi)了EUV，就是避免在ASML掌握的地盤上重新搞一堆供應(yīng)鏈出來(lái)，而這兩種方案，似乎都有了好的結(jié)果，所以我們是繼續(xù)在ASML壟斷的路上死磕EUV，還是換道超車呢？