近日，隨著華為Mate60、MateX5系列手機(jī)銷售，其搭載的芯片成為了全球最火的話題。

而從華為大規(guī)模銷售這些手機(jī)，很明顯可以看出來，華為是徹底攤牌，不再低調(diào)了，直接向全世界表示，已經(jīng)突破了封鎖，美國(guó)是真的卡不住了。

而按照外媒的拆解分析，這顆芯片，其實(shí)是等同于7nm工藝的，且沒有EUV痕跡，意味著是用DUV光刻機(jī)，經(jīng)多次曝光制造出來的。

至此，這顆芯片的出現(xiàn)，也可以證明一個(gè)事實(shí)，那就是中國(guó)大陸的廠商，也有了量產(chǎn)7nm芯片的能力，而目前全球也就只有4家晶圓廠有這個(gè)實(shí)力。另外三家分別是臺(tái)積電、三星、intel。

于是很多網(wǎng)友稱，這可以說是中國(guó)大陸的臺(tái)積電誕生了，畢竟已經(jīng)進(jìn)入10nm以下，離的不算太遠(yuǎn)了。

當(dāng)然，如果從工藝制程來看，臺(tái)積電目前的工藝是3nm，其實(shí)較7nm工藝，也就兩代，因?yàn)橹虚g只隔了一個(gè)5nm了。而像三星也是3nm工藝，intel目前還處于7nm。

所以如果從工藝制程來看，中國(guó)芯確實(shí)有了非常大的突破，特別是在美國(guó)的封鎖之下，因?yàn)槊绹?guó)之前是想要卡死中國(guó)芯在14nm的，對(duì)14nm及以下的設(shè)備全部封禁了。

不過，大家也要看到另外一個(gè)事實(shí)，那就是從14nm進(jìn)入7nm，相對(duì)而言沒有想象中的那么難，因?yàn)槠渲凶钪匾墓饪虣C(jī)，有解決辦法。

不管是28nm，還是14nm，或者7nm，都可以用浸潤(rùn)式光刻機(jī)來制造，通過多次曝光后，浸潤(rùn)式光刻機(jī)，最多可以量產(chǎn)7nm芯片。

但要進(jìn)入5nm芯片，就完全不一樣了，以目前的技術(shù)，要進(jìn)入5nm，需要用到EUV光刻機(jī)，沒有另外的辦法。

而EUV光刻機(jī)目前國(guó)內(nèi)是買不到的，所以要進(jìn)入5nm，要跨過的檻更高，更難了。

但不管怎么樣，有了7nm芯片的量產(chǎn)能力后，全球可以說90%的芯片都可以生產(chǎn)了，美國(guó)是真的卡不住了，而中國(guó)大陸真的也有希望誕生出一家“臺(tái)積電”。