眾所周知，近日關(guān)于光刻機(jī)的禁令靴子落地了。

按照荷蘭的規(guī)則，用于14nm及以下芯片的制造的設(shè)備/技術(shù)，不能出口，除非獲得許可證。原則基本與美國是一致的。

在光刻機(jī)上，荷蘭稍微的放開了一點(diǎn)點(diǎn)，那就是浸潤式光刻機(jī)中，TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)型號不能出口，但NXT:1980Di可以出口。

這款NXT:1800Di光刻機(jī)，非常特殊，采用193nm光源，分辨率小于等于38nm，數(shù)值孔徑為1.35NA，目前全球晶圓廠們在使用它時，大多是生產(chǎn)14nm以上邏輯工藝，也就是28nm及以上。

但另外一方面，它又是一臺浸潤式光刻機(jī)，雖然是193nm光源，但經(jīng)過水介質(zhì)之后，等效于134nm的光源，那么經(jīng)過多重曝光之后，理論上依然可以滿足14nm甚至7nm左右的工藝生產(chǎn)。

所以它是一臺比較敏感的光刻機(jī)，可以禁止出口，也可以不禁止，就看如何去定性了。

也因?yàn)樗拿舾行?，ASML也有點(diǎn)左右為難，所以有媒體報道稱，ASML正在做一個計劃，那就是閹割這臺NXT:1980Di光刻機(jī)，使其不敏感，能夠不受爭議的出口到中國來。

怎么閹割呢，就是對其支持的工藝進(jìn)行改進(jìn)，比如說讓它無法支持到14nm及7nm這個級別，只能讓他用于28nm工藝。

這樣ASML就可以沒有爭議的將它出口出去，不會有任何問題。

要知道之前日本，為了解決這種有爭議的設(shè)備，也就是既能用于28nm及以上的工藝，也能用于14nm及以下工藝的設(shè)備，日本是直接一刀切，全部禁止出口的。

但對于ASML而言，又不想這么干，因?yàn)槿绻慌_浸潤式光刻機(jī)也不能賣到中國來，那么中國有可能研發(fā)出自己的光刻機(jī)，那么ASML就可能與中國市場無緣了。

ASML的總裁溫克寧曾經(jīng)說過說，如果對中國進(jìn)行禁售，要不了多久，中國什么都能自己搞出來，那么就沒我們什么事了。

所以對于ASML而言，一方面是不想丟掉中國這個市場，但另外一方面又要讓出口的光刻機(jī)，沒有爭議，所以閹割其受爭議的功能，確實(shí)是一個好辦法，畢竟英偉達(dá)、英特爾都干過類似的事情，將芯片進(jìn)行閹割，讓它能夠符合出口禁令，不被管制。

當(dāng)然，以上也只是媒體的猜測，ASML會不會真的這么干，還是一個未知數(shù)，但說實(shí)話，這事是完全有可能發(fā)生的，因?yàn)锳SML有動力，有理由這么干。

最后，還是希望國產(chǎn)光刻機(jī)趕緊雄起，先不說EUV光刻機(jī)，只要我們自己能夠研發(fā)出浸潤式光刻機(jī)，情況就會立即改變，一旦我們有了，禁令估計也就沒有任何意義了，就像刻蝕機(jī)一樣，我們擁有3nm技術(shù)的刻蝕機(jī)，所以刻蝕機(jī)就不存在禁令。