近日，全球最牛的光刻機(jī)廠商ASML通過官網(wǎng)發(fā)布了關(guān)于光刻機(jī)管制的一些細(xì)節(jié)。

其中ASML明確指出，TWINSCAN NXT：2000i及之后的浸沒式光刻系統(tǒng)，已經(jīng)不能出口到中國(guó)了，而TWINSCAN NXT：2000i之前的光刻機(jī)不受影響。

這意味著除了EUV光刻機(jī)外，以前不受限的DUV光刻機(jī)，也受到限制了。

浸潤(rùn)式光刻機(jī)是什么光刻機(jī)？還是采用193nm光源的光刻機(jī)，但浸潤(rùn)式的光刻機(jī)，在硅晶圓上，會(huì)加一層水作為介質(zhì)，而193nm的光源，經(jīng)過水之后，會(huì)進(jìn)和地折射，然后就等效于134nm的光源，這樣精度更高。

所以這種浸潤(rùn)式光刻機(jī)，可以被用于45-7nm先進(jìn)制程芯片的制造，當(dāng)然主要還是用于14-45nm工藝，在7nm工藝時(shí)，更多還是用EUV光刻機(jī)。

目前ASML浸潤(rùn)式的光刻機(jī)主要有三種型號(hào)，分別是TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i 和TWINSCAN NXT:1980Di。

前面兩種是先進(jìn)的，買不到了，中國(guó)還能買到的浸潤(rùn)式光刻機(jī)，只有TWINSCAN NXT:1980Di，這也應(yīng)該是接下來(lái)很長(zhǎng)一段時(shí)間內(nèi)，中國(guó)能夠買的最先進(jìn)的光刻機(jī)了。

那么問題來(lái)了，買了這一臺(tái)光刻機(jī)后，我們能夠用它來(lái)制造幾納米的芯片？

據(jù)官網(wǎng)的數(shù)據(jù)，TWINSCAN NXT:1980Di的分辨率是大于等于38nm,數(shù)值孔徑是1.35NA，每小時(shí)可以生產(chǎn)275片晶圓。

那么是不是意味著它能生產(chǎn)的芯片最高是38nm？并不是的，事實(shí)上通過多重曝光，依然可以支持到7nm左右。只不過，這樣步驟更為復(fù)雜，良率可能會(huì)很低，導(dǎo)致成本過高，一般的晶圓廠不會(huì)這么干。

目前這臺(tái)浸潤(rùn)式光刻機(jī)，普遍用于14nm及以上的芯片制造，很少用于14nm以下的芯片制造，但逼到極限了，也是能使用在14nm以下的。

另外，既然只能買到這樣的光刻機(jī)，那么我們能不能不買這個(gè)，就用國(guó)產(chǎn)的算了？

那肯定也是不行的，目前國(guó)產(chǎn)的光刻機(jī)，最先進(jìn)的是上海微電子的SSA600/20，其分辨率是90nm，較TWINSCAN NXT:1980Di的38nm，還相差很遠(yuǎn)。

這臺(tái)SSA600/20據(jù)稱最多只能達(dá)到45nm制程，所以還是需要進(jìn)口ASML的TWINSCAN NXT:1980Di。

只是目前形勢(shì)已經(jīng)非常嚴(yán)峻了，畢竟DUV也開始被限了，要是接下來(lái)連TWINSCAN NXT:1980Di也不賣了，只能買到干式光刻機(jī)，那問題就真的嚴(yán)重了，連成熟工藝都會(huì)受影響了，所以國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，真的要加油，否則后果真的會(huì)非常嚴(yán)重。