而據(jù)媒體的報(bào)道稱，日本政府將在今年春季實(shí)施出口管制，以阻止先進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)被用于軍事用途，雖然沒說針對中國，但誰都看得出來，就是針對中國。

事實(shí)上，美國之所以聯(lián)合上日本，最擔(dān)心的事情就是日本賣光刻機(jī)給中國，那中國的芯片工藝，可以達(dá)到5nm。

為何這么說？因?yàn)槿毡灸峥档墓饪虣C(jī)，其光刻分辨率目前確實(shí)能夠達(dá)到5nm，也是ASML之后，全球第二家擁有浸潤式光刻機(jī)的廠商。

目前光刻機(jī)已經(jīng)發(fā)展到第五代了，也就是EUV光刻機(jī)，而在EUV之前，還有g(shù)-line、i-line、Krf、ArF。

至于g-line、i-line比較落后了，用于um級芯片的制造，很多廠商都有，就不多說了。

而像KrF、ArF也有一個(gè)說法，就是DUV光刻機(jī)，這里又分為干式光刻機(jī)、濕式光刻機(jī)（也稱浸潤式光刻機(jī)）。

其中浸潤式光刻機(jī)，是采用193nm波長的光源，但是光刻時(shí)的介質(zhì)為水，所以193nm光源，等效于143nm，所以這種光刻機(jī)，是能夠制造7nm芯片的，甚至極限使用下，能達(dá)到5nm。目前除了ASML外，尼康也能夠制造。

與ASML不同，尼康的光刻機(jī)，是采用的日本本土的技術(shù)，沒有合作美國的技術(shù)或設(shè)備，所以不受美國長臂管轄，如果日本愿意，是可以出售這樣的光刻機(jī)給中國的。

另外佳能在研發(fā)的NIL光刻機(jī)（納米壓印技術(shù)），據(jù)說也有望達(dá)到5nm精度，雖然還沒有研發(fā)出來，但路線已確定，最近兩到三年有望實(shí)現(xiàn)。

所以美國很擔(dān)心這件事情的發(fā)生，一旦中國買到了這些光刻機(jī)，那就卡不住脖子了，所以就找上了日本，希望日本政府出面，禁售這些光刻機(jī)。

對日本而言，美國是大哥啊，大哥的話必須得聽，所以自然就聽話，尼康、佳能的先進(jìn)光刻機(jī)，自然就不能賣給中國了。

但對于日本廠商而言，光刻機(jī)如果缺少了中國市場的支持，很難重新崛起，所以這個(gè)決定不好下，未來變數(shù)還很大。