當(dāng)前先進(jìn)芯片制造工藝獲得業(yè)界的廣泛關(guān)注，在ASML的EUV光刻機(jī)支持下延續(xù)了摩爾定律，然而到了如今硅基芯片已逐漸達(dá)到了物理極限，全球眾多芯片企業(yè)紛紛開發(fā)新技術(shù)試圖繞開EUV光刻機(jī)的限制。

對(duì)于現(xiàn)有的硅基芯片，全球最大的芯片制造企業(yè)臺(tái)積電研發(fā)先進(jìn)工藝已遇到了巨大阻力，3nm工藝已延遲了一年，在今年三季度研發(fā)成功后卻被蘋果認(rèn)為用它試產(chǎn)的A16處理器性能不達(dá)標(biāo)，成本卻太高，最終蘋果舍棄了3nm工藝，導(dǎo)致臺(tái)積電的3nm工藝面臨無客戶采用而沒有量產(chǎn)。

在先進(jìn)工藝研發(fā)難度、成本高的情況下，臺(tái)積電如今也開始轉(zhuǎn)向以封裝技術(shù)提升現(xiàn)有工藝的性能以滿足芯片企業(yè)的要求，臺(tái)積電已聯(lián)合了19家芯片企業(yè)成立“3D Fabric ”聯(lián)盟，以先進(jìn)的封裝技術(shù)提高5nm、7nm等現(xiàn)有工藝的性能，甚至可以提升無需EUV光刻機(jī)的7nm、16nm工藝芯片的性能。

臺(tái)積電是ASML的第一大客戶之一，更是EUV光刻機(jī)的主要買家，在臺(tái)積電給了ASML一記重錘之后，ASML一直順從的美國(guó)卻又給了它一記重錘。美國(guó)芯片企業(yè)美光表示繞開EUV光刻機(jī)研發(fā)的10nm級(jí)別的1β工藝提升了存儲(chǔ)密度30％，而功耗降低了20％，更重要的是成本大幅下降，這主要是因?yàn)镋UV光刻機(jī)比美光現(xiàn)在采用的EUV光刻機(jī)貴了2－3倍。

其次是美國(guó)光刻機(jī)企業(yè)Zyvex公司研發(fā)電子束光刻機(jī)，繞開了ASML的EUV光刻機(jī)，并且將先進(jìn)工藝提升到0．768納米，打破了ASML尚未量產(chǎn)的第二代EUV光刻機(jī)的極限，為芯片制造開辟了新的道路，如此一來美國(guó)芯片企業(yè)未來很可能不再采購(gòu)ASML的EUV光刻機(jī)。

臺(tái)積電和美國(guó)芯片企業(yè)都在舍棄ASML的EUV光刻機(jī)，ASML終于開始重新將目光放在中國(guó)市場(chǎng)，近期表示將大舉擴(kuò)張光刻機(jī)的產(chǎn)能，EUV光刻機(jī)產(chǎn)能將提升到90臺(tái)，DUV光刻機(jī)產(chǎn)能增加至600臺(tái)，然而它遲遲未能對(duì)中國(guó)自由出貨，而中國(guó)芯片已經(jīng)等不及了。

中國(guó)芯片制造企業(yè)以現(xiàn)有的DUV光刻機(jī)將芯片制造工藝推進(jìn)至7nm，國(guó)內(nèi)的芯片封裝企業(yè)通富微電等又研發(fā)了5nm芯粒封裝技術(shù)，如此國(guó)產(chǎn)芯片可望提供接近5nm工藝性能的芯片，對(duì)ASML的EUV光刻機(jī)需求迫切性下降。

在現(xiàn)有芯片技術(shù)之外，中國(guó)還在加緊開發(fā)量子芯片、光子芯片、石墨烯芯片等技術(shù)，不少國(guó)內(nèi)芯片企業(yè)都公布了它們的相關(guān)專利，顯示出中國(guó)在先進(jìn)芯片技術(shù)方面的突破，其中光子芯片更是中國(guó)最快實(shí)現(xiàn)商用的技術(shù)。

早前中國(guó)一家企業(yè)就被媒體報(bào)道已籌建全球第一條光子芯片生產(chǎn)線，預(yù)計(jì)最快在明年量產(chǎn)，一旦光子芯片實(shí)現(xiàn)商用，那將徹底革新當(dāng)下的芯片技術(shù)，光子芯片的性能比硅基芯片高1000倍，功耗則只有硅基芯片的千分之一，具有廣闊的應(yīng)用前景。

這一切無不顯示出全球芯片行業(yè)都在繞開成本昂貴的EUV光刻機(jī)，降成本已成為芯片行業(yè)的共識(shí)，可以說以獨(dú)有的先進(jìn)EUV光刻機(jī)稱霸全球芯片制造行業(yè)的ASML已到了落幕的時(shí)候，尤其是ASML一直順從的美國(guó)繞開EUV光刻機(jī)更是給它重?fù)?，ASML的艱難日子或許正在到來。