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中國研發(fā)石墨烯芯片,替代硅基芯片,就不需要EUV光刻機了?

2022-11-28 來源:互聯(lián)網亂侃秀
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關鍵詞: 光刻機 硅基 集成電路

近日,在中國國際石墨烯創(chuàng)新大會,很多公司成立了石墨烯銅創(chuàng)新聯(lián)合體,希望研發(fā)出石墨烯芯片,來替代硅基芯片,從而解決卡脖子問題。

更重要的是,目前硅基芯片已經快要按近工藝極限,達到了3nm,而極限可能在1nm,空間有限。而石墨烯芯片電子遷移率遠高于硅基材料,性能是硅基芯片的10倍,同時功耗還低。

所以一時之間,網友們又沸騰了,表示目前我們在硅基芯片的先進工藝上受阻,我們應該努力研究石墨烯芯片,來替代硅基芯片,甚至可以繞開EUV光刻機。

石墨烯芯片,究竟是什么芯片?其實是采用石墨烯為材料的一種芯片,石墨烯中,碳原子是以六方晶格排列的,所以具備高電導率、高導熱性,能使數(shù)據(jù)傳輸更快,也能夠使功耗更低,還好的散熱。

也正因為如此,所以研究表明,石墨烯芯片,可以實現(xiàn)100GHz的頻率,而硅基芯片最高也只能達到10GHz的頻率。

因為具備這些特性,所以石墨烯被定位為下一代新型半導體材料。只不過石墨烯芯片不好造,到目前也沒有造出真正意義上的、能大規(guī)模量產的、能實用的石墨烯芯片,更多的還是停留在實驗室。

另外芯片從設計到最后的實用,還需要一條完整的產業(yè)鏈,目前這也是石墨烯不具備的,所以石墨烯芯片,離實用,可能還差十萬八千里,短時間內大家就別想了。

此外,在于制造工藝方面,目前并沒有證據(jù)表示,石墨烯就不需要光刻機了。之前在非大規(guī)模制造時,研究人員沒有使用光刻機,并不代表大規(guī)模制造時,不需要光刻機。

按照當前芯片制造的模式來看,所有大規(guī)模量產的芯片,都是通過光刻的方式,將電路圖刻到硅片上面去的,而石墨烯本身只是材料的不同,其模式、流程其實還是一致的。

如果要繞開光刻機,可能要對整個芯片產業(yè)鏈重塑或者重構,這可能遠比繞開光刻機更難,所以別想著用另外一種芯片材料來繞開EUV光刻機,這可能比研發(fā)出EUV光刻機更不現(xiàn)實,所以還是老老實實的研發(fā),別老想彎道超車或換道超車,你覺得呢?



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