ASML在半導(dǎo)體領(lǐng)域的地位不用多說(shuō)，它家的光刻機(jī)占了全球70%+的份額，而EUV光刻機(jī)的份額更是高達(dá)100%，至今沒(méi)有第二家廠商能夠生產(chǎn)出EUV光刻機(jī)。

所以目前任何需要大規(guī)模制造7nm及以下制程的晶圓廠，都得求ASML，因?yàn)橐坏](méi)有EUV光刻機(jī)，7nm及以下的芯片就制造不出來(lái)。

過(guò)去的這許多年，有眾多的企業(yè)都想替代ASML，比如尼康、佳能，甚至還有上海微電子，大家都在光刻機(jī)上發(fā)力，想推出EUV光刻機(jī)，甚至換一個(gè)方向，用另外的技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)EUV光刻機(jī)的功能，但暫時(shí)都沒(méi)有成功。

那么問(wèn)題來(lái)了，為何ASML在半導(dǎo)體領(lǐng)域無(wú)法被替代？其實(shí)原因很簡(jiǎn)單，ASML并不是一家企業(yè)在戰(zhàn)斗，甚至也不是一個(gè)國(guó)家在戰(zhàn)斗，ASML是整合了全球的先進(jìn)工藝，將美、歐、日、韓、臺(tái)綁在一架戰(zhàn)車上，大家一起戰(zhàn)斗，攢局無(wú)敵。

如上圖所示，這是ASML光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈中的主要核心部分，分國(guó)上、中、下游三個(gè)部分。

上游是光刻機(jī)的核心元件提供商，其中光源是來(lái)自于美國(guó)的，物鏡組、光學(xué)組件、精密加工是來(lái)源于德國(guó)的，零部件來(lái)源于日本，而浸沒(méi)雙工作臺(tái)來(lái)源于荷蘭、中國(guó)臺(tái)灣。

ASML主要處于中游，就是將上游的這些核心廠商、核心元件聚攏，然后自己再組裝成一臺(tái)光刻機(jī)。

而下游則是臺(tái)積電、三星、英特爾這三家，這三家為了支持ASML，曾入股ASML，成為ASML的股東，形成了利益共同利。

所以很明顯，ASML是將全球最頂尖的企業(yè)，都拉到了自己的陣營(yíng)中，其它光刻機(jī)企業(yè)，要想制造出EUV光刻機(jī)，一是從ASML這撬墻角，將核心供應(yīng)商撬走，但這太困難了。

二是找到能夠一批上、下游都能夠替代的廠商，這就更加困難了，所以其它的光刻機(jī)企業(yè)，在EUV這個(gè)賽道上，是不太可能與ASML競(jìng)爭(zhēng)的，除非換賽道，以另外一種技術(shù)試。

目前佳能是押寶納米壓印光刻（NIL）技術(shù)，而美國(guó)有企業(yè)在在搞電子束光刻機(jī)(EBL)，還有企業(yè)在研究直接自組裝（DSA）光刻，X-射線光刻等，都是繞開EUV技術(shù)。

這其實(shí)已經(jīng)能夠很好的說(shuō)明問(wèn)題，大家都認(rèn)為走同樣的EUV路線，大家拼不過(guò)ASML這一個(gè)陣營(yíng)，只有換線路，才有希望，這也是ASML真正無(wú)法被替代的原因。