中商情報網(wǎng)訊：清洗步驟貫穿整個半導(dǎo)體制程，用于去除半導(dǎo)體硅片制備、晶圓制造和封裝測試每個步驟中可能存在的雜質(zhì)、避免雜質(zhì)影響芯片良率和芯片產(chǎn)品的性能。

市場規(guī)模

隨著整個半導(dǎo)體投資加速，半導(dǎo)體設(shè)備市場高速增長的驅(qū)動下，半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)市場規(guī)模高速增長，2020年大幅增長至67.92億元，2021年達(dá)到了106.09億元，預(yù)計2022年我國半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)市場規(guī)模有望達(dá)到150億元。

數(shù)據(jù)來源：Gartner、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

企業(yè)分析

中國半導(dǎo)體市場廣大，清洗設(shè)備在這里有很好的發(fā)展前景。雖然國際半導(dǎo)體設(shè)備巨頭占據(jù)著大部分市場份額，中國本土廠商也有很好的表現(xiàn)。目前，有三家國內(nèi)廠商可以提供中高端濕法清洗設(shè)備，分別是至純科技、北方華創(chuàng)和盛美，且國內(nèi)廠商的市場占比還在逐年上升中。相比于其它半導(dǎo)體設(shè)備，清洗設(shè)備的技術(shù)門檻較低，未來5年有望率先實現(xiàn)全面國產(chǎn)化。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理