近日國產(chǎn)光刻機產(chǎn)業(yè)鏈再獲突破，上海傳芯半導體公開了用于EUV光刻機的曝光成像結(jié)構(gòu)、反射式光掩模版組及投影式光刻機專利，這對于國產(chǎn)光刻機產(chǎn)業(yè)鏈來說是又一個關(guān)鍵的技術(shù)突破。

光刻機的生產(chǎn)之所以困難，在于它集中了全球科技行業(yè)的精華，需要德國、美國、日本等諸多國家的配套企業(yè)提供相關(guān)的組件，最終由荷蘭的ASML將之整合成為一臺光刻機，正是這種高度的配合才能生產(chǎn)出全球最先進的光刻機。

中國近幾年一直在努力實現(xiàn)光刻機的自主化，其中上海微電子在光刻機方面的進展較快，不過僅靠上海微電子是無法生產(chǎn)出先進的光刻機的，需要國內(nèi)諸多產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)共同合作才能最終將之變成現(xiàn)實。

此前清華大學機械工程系朱煜教授帶隊的清華大學研發(fā)團隊就已研發(fā)出光刻機雙工作臺，由此中國成為全球第二個可以生產(chǎn)雙工作臺的國家；此外激光頭、鏡頭等廠商也陸續(xù)生產(chǎn)出先進的組件，再到如今上海傳芯半導體的突破，可以說國產(chǎn)光刻機的產(chǎn)業(yè)鏈正在加速完善。

中國的光刻機產(chǎn)業(yè)鏈得以迅速完善，在于這20多年打下的制造業(yè)基礎(chǔ)，這些基礎(chǔ)讓這些組件的研發(fā)和量產(chǎn)迅速推進，逐步完善，如此可以預期再過數(shù)年國產(chǎn)的先進光刻機終將會變成現(xiàn)實。

光刻機巨頭ASML曾經(jīng)表示即使給中國企業(yè)圖紙，中國企業(yè)也無法生產(chǎn)出先進的光刻機，原因就在于光刻機的諸多組件都由非中國大陸的企業(yè)生產(chǎn)，然而如今中國的光刻機產(chǎn)業(yè)鏈在快速推進，顯然出乎了它的意料。

其實這也是ASML的自大吧，20多年前日本的光刻機可也是領(lǐng)先于ASML的，占有的市場份額與ASML相差不大，后來先進的光刻機成本越來越昂貴，于是ASML與光刻機客戶臺積電、三星、Intel等結(jié)成聯(lián)盟并由這些客戶入股，在利益捆綁之下，這些芯片制造企業(yè)都優(yōu)先采用ASML的光刻機，才造成了如今ASML的一家獨大。

這就說明光刻機的技術(shù)其實并非由ASML所獨有，只不過ASML通過客戶捆綁的方式擊敗了日本的光刻機產(chǎn)業(yè)，最終才變成了ASML的一家獨大，然而如今日本也有意繞開ASML的光刻機，日本的鎧俠存儲就與日本企業(yè)研發(fā)了先機的NIL工藝，已在芯片制造行業(yè)走出了一條新路。

中國如今也是兩條腿走路，一方面繼續(xù)打通光刻機產(chǎn)業(yè)鏈，另一方面則是研發(fā)無需光刻機的芯片制造工藝，中國能如此做，在于中國龐大的市場，以及龐大的制造業(yè)基礎(chǔ)，無論那一條路打通，中國的芯片制造產(chǎn)業(yè)都能支撐起一條芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈。

今年一季度ASML加緊對中國出貨光刻機，可能也正是預感到中國芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈已取得新的突破，希望趕在中國量產(chǎn)自己的芯片制造設(shè)備之前再賺一筆，乃至以此壓制中國芯片產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展，畢竟中國的成本優(yōu)勢太強了，就如中國已量產(chǎn)的芯片價格低至美國芯片的四分之一，只要中國量產(chǎn)的芯片，歐美芯片企業(yè)都只能大舉降價拋售，近期歐美的芯片都傳出降價九成的消息就印證了這一點。