2022年中國涂膠顯影設備市場規(guī)模及競爭格局預測分析（圖）
2022-08-15
來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院
6726
關鍵詞： 半導體設備
中商情報網(wǎng)訊：涂膠顯影設備是光刻工序中與光刻機配套使用的涂膠、烘烤及顯影設備，包括涂膠機、噴膠機和顯影機。根據(jù)使用方式不同可分為單獨使用（Off Line）和聯(lián)機作業(yè)（In Line）。
市場規(guī)模
涂膠/顯影機作為光刻機的輸入（曝光前光刻膠涂覆）和輸出（曝光后圖形的顯影）設備，主要通過機械手使晶圓在各系統(tǒng)之間傳輸和處理，從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影、堅膜等工藝過程，是集成電路制造過程中不可或缺的關鍵處理設備。中國大區(qū)（含中國臺灣地區(qū)）前道涂膠顯影設備市場規(guī)模預計由 2016 年的 8.57 億美元增長至2023 年的10.26 億美元，年均復合增長率有望達 7.78%。
數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
競爭格局
TEL 在中國大陸的市占率高達91%，其次為 Screen（迪恩士），占比接近 5%，中國芯源微涂膠顯影設備國產(chǎn)化率僅為4%。
數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
