近日ASML高管表示摩爾定律依然生效，依靠現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)等技術(shù)可以進(jìn)一步將芯片制造工藝推進(jìn)1納米，此言論是它在一季度營收下滑19％、凈利潤幾乎腰斬之后發(fā)出的，這可能是因?yàn)樗鼞n慮芯片制造市場發(fā)生變化而給業(yè)界描繪的大餅。

如今的ASML依然是活得很滋潤的，全球芯片制造企業(yè)依然在搶購它的光刻機(jī)，不僅它的新光刻機(jī)廣受歡迎，甚至供不應(yīng)求，二手光刻機(jī)同樣極受歡迎，尤其是中國芯片企業(yè)的搶購，導(dǎo)致日本的二手光刻機(jī)漲價(jià)三倍。

不過由于光刻機(jī)的價(jià)格實(shí)在太昂貴，導(dǎo)致不少企業(yè)頗有微詞，其中日本芯片企業(yè)最先發(fā)起挑戰(zhàn)，鎧俠聯(lián)合日本的芯片設(shè)備企業(yè)研發(fā)的NIL工藝已舍棄了光刻機(jī)，據(jù)日媒的消息指使用NIL工藝可以大幅降低成本，因此鎧俠對(duì)于NIL工藝頗為滿意，預(yù)期該項(xiàng)工藝可以延伸至5納米。

北方某國因?yàn)楫?dāng)下的境況難以買到光刻機(jī)，因此決定研發(fā)全新技術(shù)的光刻機(jī)，正研發(fā)X射線光刻機(jī)，X射線的波長比極紫外線的波長更短，如果這項(xiàng)技術(shù)獲得成功可以達(dá)到更高的精度、同時(shí)也可以大幅降低成本。

中國由于種種原因難以買到EUV光刻機(jī)，不過中國芯片制造可以DUV光刻機(jī)生產(chǎn)7nm工藝，然后再輔以芯片疊加技術(shù)取得相當(dāng)于5nm工藝的性能，而中國已是全球最大的芯片設(shè)備市場，如果中國對(duì)光刻機(jī)的需求下滑，那么對(duì)ASML將是重大打擊。

ASML更擔(dān)憂的是光刻機(jī)三大客戶臺(tái)積電、Intel和三星對(duì)光刻機(jī)的需求可能下滑，臺(tái)積電已表示在3納米工藝之后，2納米乃至更先進(jìn)的工藝開發(fā)將面臨困難，因此它們都將延遲更先進(jìn)工藝的研發(fā)，如此它們對(duì)EUV光刻機(jī)的需求將下滑。

可能ASML正是因?yàn)閾?dān)憂光刻機(jī)的需求在未來出現(xiàn)下滑，因此發(fā)出了這番言論，以鼓勵(lì)投資者，同時(shí)為芯片制造企業(yè)打氣，畢竟它的業(yè)務(wù)非常單一，光刻機(jī)是唯一的產(chǎn)品，如果光刻機(jī)的需求下滑，那么它將大傷元?dú)狻?/span>

其實(shí)ASML當(dāng)下面臨的壓力已不僅是光刻機(jī)市場可能發(fā)生的變化，芯片市場也正從供給不足向供給過剩轉(zhuǎn)變，早前它就說全球芯片供給不足將延續(xù)，然而知名蘋果分析師郭明錤和Gartner都給出了不同預(yù)測(cè)，郭明錤表示目前手機(jī)芯片市場已出現(xiàn)過剩跡象，Gartner則認(rèn)為下半年或明年將開始出現(xiàn)芯片過剩。

芯片出現(xiàn)過剩意味著當(dāng)下正大舉推進(jìn)的芯片產(chǎn)能擴(kuò)張將會(huì)暫停，對(duì)光刻機(jī)的需求將立即出現(xiàn)下降，可能ASML也正是因?yàn)閾?dān)憂光刻機(jī)的需求下滑，因此不斷發(fā)出正面信息，既是鼓舞自己也是為了提升投資者信心。

無論如何，這兩年全球芯片市場已發(fā)生重大變化，這已對(duì)全球芯片產(chǎn)業(yè)鏈造成了巨大的沖擊，這種變化為ASML帶來了這兩年的好日子，但是同樣也是因?yàn)檫@種變化必將對(duì)ASML的光刻機(jī)造成深遠(yuǎn)的影響，繼續(xù)維持這種好日子實(shí)在不太現(xiàn)實(shí)。