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- 韓企研發(fā)出石墨烯EUV光罩保護(hù)膜，能大幅度提高5nm芯片良率
- 半導(dǎo)體檢測(cè)量測(cè)設(shè)備行業(yè)研究：芯片良率守護(hù)者，短板突破正當(dāng)時(shí)
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- 三星有點(diǎn)慌？4nm芯片良率35%，3nm良率僅10%-20%
- 三星太尷尬了，4nm芯片良率只有35%，高通不相信它了
