臺積電鎖定12英寸碳化硅新戰(zhàn)場,布局AI時代散熱關(guān)鍵材料
關(guān)鍵詞: 臺積電 碳化硅(SiC)單晶基板 氮化鎵(GaN) 芯片熱管理
全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁入人工智能(AI)與高性能計算(HPC)驅(qū)動的新時代,散熱管理正逐漸成為影響芯片設(shè)計與制程能否突破的內(nèi)核瓶頸。當(dāng)3D堆棧、2.5D集成等先進封裝架構(gòu)持續(xù)推升芯片密度與功耗,傳統(tǒng)陶瓷基板已難以滿足熱通量需求。晶圓代工龍頭臺積電正以一項大膽的材料轉(zhuǎn)向回應(yīng)這一挑戰(zhàn),那就是全面擁抱12英寸碳化硅(SiC)單晶基板,并逐步退出氮化鎵(GaN)業(yè)務(wù)。此舉不僅象征臺積電在材料戰(zhàn)略recalibration,更顯示散熱管理已經(jīng)從“輔助技術(shù)”升格為“競爭優(yōu)勢”的關(guān)鍵。
碳化硅以寬能隙半導(dǎo)體聞名,過去主要用于高效率電力電子器件,如電動車逆變器、工業(yè)馬達(dá)控制與新能源基礎(chǔ)設(shè)施。然而,SiC的潛力不止于此,優(yōu)異熱導(dǎo)率可達(dá)約500W/mK,遠(yuǎn)高于常見陶瓷基板如氧化鋁(Al?O?)或藍(lán)寶石(Sapphire)。
AI加速器、數(shù)據(jù)中心處理器及AR智能眼鏡等高密度應(yīng)用逐步落地,散熱空間受限問題日益嚴(yán)峻。尤其是在穿戴式設(shè)備中,微型芯片組件貼近眼睛,若無精確的熱控將影響安全與穩(wěn)定性。這使得臺積電憑借長年在12英寸晶圓制程的經(jīng)驗,正推動以大尺寸單晶SiC取代傳統(tǒng)陶瓷基板。這意味著不必重建制造體系,即能在既有產(chǎn)線導(dǎo)入新材料,兼顧良率與成本優(yōu)勢。
雖然,用于散熱管理的SiC基板不需達(dá)到功率組件那般嚴(yán)苛的電性缺陷標(biāo)準(zhǔn),但晶體完整性依舊至關(guān)重要。許多外在因素不僅會干擾聲子傳導(dǎo),削弱熱導(dǎo)率,還可能造成局部過熱,進而影響機械強度與表面平整度。對12英寸大尺寸晶圓而言,翹曲與變形更是關(guān)鍵課題,因其直接影響芯片貼合與先進封裝的良率。因此,業(yè)界焦點已從“消除電性缺陷”轉(zhuǎn)向“確保體密度均勻、低孔隙率與高表面平整度”,這些條件被視為高良率量產(chǎn)SiC散熱基板的前提。
報道表示,SiC結(jié)合了高熱導(dǎo)率、強機械性與抗熱沖擊性,在2.5D與3D封裝架構(gòu)中展現(xiàn)出獨特優(yōu)勢。包括在2.5D集成方面,芯片并排架設(shè)于硅或有機中介層上,信號連接短且高效,散熱挑戰(zhàn)主要在水平方向上。另外,在3D集成方面,芯片通過硅通孔(TSV)或混合鍵合垂直堆棧,連接密度極高,但散熱壓力也隨之倍增。因此,SiC除了能作為被動散熱材料,亦可搭配鉆石、液態(tài)金屬等先進散熱方案,構(gòu)成“混合式冷卻”解決方案。
日前臺積電宣布,預(yù)計于2027年前逐步退出氮化鎵(GaN)業(yè)務(wù),將資源轉(zhuǎn)投SiC領(lǐng)域。此舉顯示公司對市場與材料策略的重新評估。因為相比GaN在高頻應(yīng)用優(yōu)勢,SiC在熱管理的全面性與可擴展性更符合臺積電的長遠(yuǎn)布局。12英寸大尺寸化,不僅可降低單位成本,還能提升制程均勻性。盡管SiC在切片、拋光與平坦化上仍面臨挑戰(zhàn),但臺積電的既有設(shè)備與封裝工藝能力,使其有望克服障礙,加速量產(chǎn)落地。
事實上,過去SiC幾乎與電動車功率組件劃上等號。然而,臺積電正推動SiC跨入新應(yīng)用,例如導(dǎo)電型N型SiC作為散熱基板,在高性能處理器、AI加速器中承擔(dān)熱擴散角色?;蛘甙虢^緣型SiC為中介層(Interposer),以在芯片分割與Chiplet設(shè)計,提供電性隔離與熱傳導(dǎo)兼顧的解決方案。這些新路徑,意味著SiC不再只是“電力電子的代名詞”,而是將成為AI與數(shù)據(jù)中心“芯片熱管理骨干”的基石材料。
高端材料領(lǐng)域,鉆石與石墨烯雖擁有極高熱導(dǎo)率(鉆石可達(dá)1,000~2,200W/mK,單層石墨烯更高達(dá)3,000~5,000W/mK),但其高昂成本與制程規(guī)?;щy,使其難以成為主流。液態(tài)金屬、導(dǎo)電凝膠與微流體冷卻等替代方案雖有潛力,但在集成性與量產(chǎn)成本上亦存挑戰(zhàn)。相較之下,SiC以“性能、機械強度與可量產(chǎn)性兼具”的特點,展現(xiàn)出最具實際性的折衷方案。
因此,臺積電在12英寸晶圓制造上的深厚經(jīng)驗,使其有別于其他競爭者。不僅能以既有基礎(chǔ)加速SiC平臺建構(gòu),還能憑借高度制程控制能力,快速將材料優(yōu)勢轉(zhuǎn)化為系統(tǒng)級散熱方案。與此同時,英特爾推動背面供電(Backside Power Delivery)與熱─功率協(xié)同設(shè)計,顯示全球龍頭廠商皆已將散熱視為內(nèi)核競爭力。
